微震滿(mǎn)足ASML的PSD規范
光刻機對基座有嚴苛的微振及剛性需求,高精準度的安裝固定要求。采用高剛性RC結構達到最佳隔振效果,精密加工的特殊結構定位固定件,RC基座表面使用潔凈室許可的環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行處理,光潔度滿(mǎn)足潔凈室標準,鋼度滿(mǎn)足光刻機的要求。
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